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改进现代电路板打样生产技术的困难有哪些

2021-09-07

随着科学技术发展社会进步,传统的电路板打样生产模式也将逐渐被取代,改进创新总是来源于实践,从实践中的点滴逐渐改进,逐渐取代旧的生产技术,无论是员工还是管理者,都不能只承担任务执行任务,现代企业鼓励创新,从生产实践分析如何提高和改进电路板打样的生产工艺。那么改进现代电路板打样生产技术的困难有哪些?

电路板打样.png

1、电路板的打样生产工艺方法

普通的电路板打样生产工艺分为盖孔酸蚀法和图形电镀法,两者各有优缺点,酸蚀法得到的线路平均,有助于抑制阻抗,状况污染少,但开孔后会成为废弃物; 抑制碱蚀生产比较简单,但线路不均匀,状况污染也较大。

2、电路板的打样生产线干膜分支

生产线制造的如果是干膜,分支的干膜分辨率会分支,但通常曝光后可以显示2mil/2mil的线宽间距,一般曝光机的分辨率可以达到2mil,通常受此限制4mil/4mil线宽间距以上的显影机喷嘴,压力、药液浓度关系不大,3mil/3mil线宽间距以下是喷嘴影响分辨率,通常使用扇形喷嘴,压力可在3BAR左右显影。虽然曝光量对线路有较大影响,但目前市面上运用的大部分干膜曝光的局限性相当广泛, 因此,在实践生产时结合暗箱清洁,根据实践情况选择可生产的线路板的线宽和线间距。

3、电路板的打样蘑菇效应

关于碱浸蚀,电镀后总是存在蘑菇效应,一般有区别,线路大于4.0mil/4.0mil时,蘑菇小。线路为2.0mil/2.0mil时,影响大,干膜在电镀时铅锡溢出形成蘑菇状。由于蘑菇效应,细线路的离膜很费事,氢氧化钠对铅锡的侵蚀在2.0mil/2.0mil的情况下明确,因此电镀时可以加厚铅锡及氢氧化钠的浓度进行处理。如果对线路板所制造的线厚度没有特别要求,可以使用0.25oz铜箔厚度的线路板制造,或者局部蚀刻0.5oz的基铜,使镀铜变薄,所以生产时需要注意,在酸蚀时,使用该线路可以得到比碱性蚀刻更好的结果,无蘑菇效应的侧蚀比碱性蚀刻少,另外使用扇形喷嘴可以得到比锥形喷嘴更好的结果,酸蚀后线的阻抗变化有点小。

一般的电路板打样设备不用进行特别的调整就可以完成3.0mil/3.0mil的板子,但合格率受情况和人员使用纯熟水平的影响,碱蚀可适当生产3.0mil/3.0mil以下的基板,只要基铜不小,扇形喷嘴的结果就比锥形喷嘴看得出。